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艾司摩尔第一季营收表现强劲,全年前景乐观

2024-03-29 224

半导体微影技术厂商艾司摩尔(ASML)公布 2018 第一季财报。ASML 第一季营收净额(net sales)22.9 亿欧元,净收入 5.4 亿欧元,毛利率(gross margin)为 48.7%。预估 2018 第二季营收净额(net sales)将落在 25 亿至 26 亿欧元之间,毛利率(gross margin)约为 43%,反映 EUV 营收将大幅增加。

ASML 总裁暨首席执行官温彼得(Peter Wennink)表示 : “第一季业绩表现强劲,超出预期,主要来自于大量出货,以及客户对深紫外光(DUV)微影系统和全方位微影方案(Holistic Litho)的需求。在 EUV 方面,本季我们共完成 3 台 EUV 系统出货,另一台则正准备出货。我们在第一季获得 9 台 NXE: 3400B 订单,也确认 EUV 业务持续成长。 近来不同客户都公开讨论将于今年底前将采用 EUV 进行芯片量产。因此,我们计划在 2018 年完成 20 台 EUV 系统出货,并在 2019 年将 EUV 出货量拉升到 30 台以上,全力协助客户达成其量产目标。此外,关于下一代 High-NA(高数值孔径)EUV 产品,我们也开始从三个主要客户方面接到 4 台订单,另外有 8 台 EUV 订单则是采取升级方案(options)。”

High-NA 是 EUV 微影技术的延伸,分辨率(resolution)和微影叠对(overlay)能力比现行 EUV 系统提升 70%,能达成业界未来对于几何式芯片微缩(geometric chip scaling)的要求。

“这是一个好的开始,我们也乐观预期 2018 年 ASML 将在业绩和获利能力持续稳健成长。”温彼得说。

第一季产品重点摘要

深紫外光(DUV)微影:最新的 NXT 机台已达每天曝光 6,000 片晶圆的产能里程碑,支援客户量产需求。

全方位微影方案(Holistic Lithography):本季已完成采用多重电子束技术(multiple e-beam)的图案缺陷量测(pattern fidelity metrology)系统──ePfm5 出货。该系统是 ASML 收购汉微科后共同研发的产品,具更高分辨率以检测系统缺陷。这项创新的电子束量测系统和 ASML 的运算式微影(Computational Lithography)软件结合,能在实际制造芯片的过程中,即时提供电子束的反馈给微影系统。ASML 也已经证实多重电子束能进一步提升电子束量测的产能,应用于量产阶段。

极紫外光(EUV)微影 : 吞吐量(throughput)持续提升,在一个客户端的测试,达每小时曝光 125 片晶圆的量产里程碑,同时在 ASML 的实验室展现每小时曝光 140 片晶圆的实力。

展望 2018 年第二季,ASML 预估整体销售净额可达 25~26 亿欧元,毛利率约落在 43%,反映 EUV 业务的强劲成长。研发投资金额提高到 3.75 亿欧元,而管销费用(SG&A)支出则约 1.15 亿欧元,目标年化税率约 14%。

配息(Dividend)及新一波股票回购(Share Buyback)计划

ASML 已向董事会提出配息方案建议,每股配息 1.4 欧元(总计6 亿欧元),并订于 25 日召开年度股东会。2016 年的配息为每股 1.2 欧元。

ASML 在 2018 年 1 月宣布划继续透过股息配发和股票回购计划将现金回馈给股东。股票回购部分,ASML 计划在 2018~2019 年收购以 25 亿欧元为上限的股票。这些收购的股票中,最多有 240 万股将用于员工认股计划,其余注销。截至 2018 年 4 月 1 日,ASML 已收购 100 万股,约价值 1.7 亿欧元。

(首图来源:ASML)

2019-03-17 22:30:00

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